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SEN日森特殊光源光化學反應容器

我們可以用小容器進行光聚合，波長可以照射254nm和主365nm。
日本SEN日森特殊光源光化學反應器 VG1500-13

?小型玻璃容器中光聚合裝置 ·燈和低壓/高壓燈均可使用。
SEN日森UV/臭氧室內**除臭裝置BC110-W

該裝置可**以 254nm 波長漂浮在室內的病毒，在 185nm 波長下產生臭氧，抑制漂浮在室內的**，并除臭。
SEN日森紫外線、室內**除臭設備OZ401N-2

選擇燈（僅紫外線/UV+臭氧組合），可在無人值守的空間使用。有人居住時：僅UV 無人時：UV+臭氧的組合是可以攜帶的方便型。
日本SEN日森特殊光源表面**器PL11018C

以245nm波長對食品表面和包裝內部進行**的裝置
日本SEN日森多燈用照射單元

使用 185nm 或 254nm 的光能去除納米級有機物污漬使用無臭氧燈在 254nm 時用作**光源。
日本SEN日森UV/臭氧室內**裝置

用途對醫院的診療室、候診室、手術室等室內空間進行** 對護理設施的廚房、食堂、候診室、大廳等空間進行**
日本SEN日森內置紫外線固化設備HLR400

小型高壓光源單元可集成到設備中。
日本SEN日森UV固化設備 [帶輸送機 1kW]

配備紫外線固化輸送機的單元
日本SEN日森臺式紫外線固化裝置HC-96X

配備以365nm為主要波長的高壓燈的臺式裝置
日本SEN日森特殊光源內置UV固化裝置

光源部分配備了以365nm為主要波長的高壓紫外線燈。它已成為一個簡單的規格，以便能夠納入設備使用。
日本SEN日森光源臺式表面處理裝置SSP16-110

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
日本SEN日森輸送機型表面處理裝置PM1103C-8

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
日本SEN日森臺式準分子裝置XPL1504

使用 172nm 光能去除納米級有機物污漬
日本SEN日森低壓紫外線光源單元

使用 185nm 或 254nm 光能去除納米級有機物污漬
日本SEN日森紫外線清洗改性裝置

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
日本SEN日森批量光表面處理設備PL5-908P

配備滑動快門光源的表面處理。
SEN日森紫外線清洗改性裝置SSP-48

185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污染輸送機式裝置可均勻進行紫外線處理
日本SEN日森紫外線清洗改性裝置

185nm 和 254nm 的光能可去除納米級有機物的污垢，因此可以均勻地進行紫外線照射。
SEN日森真空光表面處理裝置 PL1-1107A

它是在真空狀態下對185nm和254nm進行輻照處理的裝置。
日本SEN日森紫外線清洗機

特點：由于工件的進出是滑動式的，因此可以**地進行紫外線照射。
日本SEN日森紫外線清洗改性設備

185nm 或 254nm UV 去除工件表面的污垢。
SEN日森紫外線清洗改性裝置PM2001N-3

紫外線處理可以簡單地完成。輻照尺寸為200×200mm，因此不僅可用于研究，還可用作小型生產機器。由于工作臺旋轉，因此可以均勻地照射
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

我們可以用小容器進行光聚合，波長可以照射254nm和主365nm。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

?小型玻璃容器中光聚合裝置 ·燈和低壓/高壓燈均可使用。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

該裝置可**以 254nm 波長漂浮在室內的病毒，在 185nm 波長下產生臭氧，抑制漂浮在室內的**，并除臭。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

選擇燈（僅紫外線/UV+臭氧組合），可在無人值守的空間使用。有人居住時：僅UV 無人時：UV+臭氧的組合是可以攜帶的方便型。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

簡單的機械表面**器
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

以245nm波長對食品表面和包裝內部進行**的裝置
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 或 254nm 的光能去除納米級有機物污漬使用無臭氧燈在 254nm 時用作**光源
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

對醫院的診療室、候診室、手術室等室內空間進行** 對護理設施的廚房、食堂、候診室、大廳等空間進行**
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

通過照射254nm，可以對漂浮在水中的**進行**。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

通過照射254nm，不僅可以對漂浮在水中的**進行**，還可以在185nm下分解有機物（促進氧化處理）。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

通過紫外線照射254nm對漂浮在水中的**和病毒進行**。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

紫外線**器和過濾功能相結合的裝置
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

它是一種通過強紫外線照射抑制罐內氣相和液相**的設備。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

除了對漂浮在水中的**和病毒進行**外，該裝置還能夠分解水中溶解的有機物，進行強氧化反應。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

通過紫外線照射254nm對漂浮在水中的**和病毒進行**。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

通過照射254nm，可以對漂浮在水中的**進行**。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源水處理

水平設備，在254nm下對漂浮在水中的**和病毒進行紫外線**。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源固化設備

小型高壓光源單元可集成到設備中。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源固化設備

涂料和粘合劑等樹脂主要以365nm的光能以秒速固化/干燥。 *在照片中，它是與輸送機組合時的圖像，不包括運輸機制。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源固化設備

紫外線固化，主波長為365nm。因為它是輸送機類型，它可以均勻地紫外線照射。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源固化設備

光源部分配備了以365nm為主要波長的高壓紫外線燈。它已成為一個簡單的規格，以便能夠納入設備使用。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源固化設備

配備以365nm為主要波長的高壓燈的臺式裝置
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 172nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 或 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

配備滑動快門光源的表面處理。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污染輸送機式裝置可均勻進行紫外線處理
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬或改性材料表面
塔瑪薩崎

185nm 和 254nm 光能可去除納米級有機物污漬，某些材料具有表面改性效果。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 或 254nm 的光能去除納米級有機物污漬使用無臭氧燈在 254nm 時用作**光源。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

該設備使用 185nm 和 254nm 的紫外線能量去除工件表面的污垢。因為它是掃描儀類型，它可以均勻地紫外線照射。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

它是在真空狀態下對185nm和254nm進行輻照處理的裝置。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

該裝置使用 185nm 和 254nm 的紫外線能量去除工件表面的污垢，因為它是滑動的，因此很容易進出工件。
塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

185nm 或 254nm UV 去除工件表面的污垢。

蘇公網安備 32050502000409號

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